射频、微电子、光电子用化合物半导体外延片量产

射频、微电子、光电子用化合物半导体外延片量产

        我们依托中国科学院半导体和国内外知名专家的强大技术力量,在安徽投资建设化合物半导体晶圆代工厂,注册资金达1亿元,在国内率先开展了 6-8 寸化合物半导体分子束外延、金属有机物化学气相沉积外延晶圆以及芯片的产业化工作,过硬的技术团队,自主研发和生产,可根据市场和客户的需要,提供定制化规格的外延及芯片。

        化合物半导体晶片

1. 涉及的化合物半导体外延片包括:

1.1 微电子产品

1)赝配高电子迁移率晶体管结构晶圆(PHEMT)

        PHEMT 是对高电子迁移率晶体管(HEMT)的一种改进结构,PHEMT具有双异质结的结构,这不仅提高了器件阈值电压的温度稳定性,而且也改善了器件的输出伏安特性,使得器件具有更大的输出电阻、更高的跨导、更大的电流处理能力以及更高的工作频率、更低的噪声等,是目前最主流的射频、通讯元器件。

2)高电子迁移率晶体管晶圆(HEMT)

        基于 GaAs 的集成电路都能够工作于超高频(毫米波)、超高速领域,它是利用具有很高迁移率的二维电子气来工作的,是射频、微波的通讯元器件。

3)砷化镓衬底上的大失配 HEMT 晶圆(MHEMT) 

        GaAs 基 InAlAs/InGaAs 大失配 MHEMT,同时结合了 InP 基 HEMT高频、高功率增益和低噪声系数的优点以及 GaAs 基 HEMT 衬底制备工艺成熟的优势,在毫米波频段展现出良好的应用潜力。

1.2 光电子产品

1)垂直共振腔面发射型激光器晶圆 (VCSEL)

        具有体积小、圆形输出光斑、单纵模输出、阈值电流小、价格低廉、易集成为大面积阵列等优点,广泛应用于光通信、光互连、光存储等领域。

2)量子阱红外探测器晶圆(QWIP)

        以其制备工艺成熟,易于大面阵集成,稳定性好,器件均匀性好,可操作像元数高,产量高,成本低,探测器光谱响应带宽窄,不同波段之间光学串音小,相对容易实现双色或多色焦平面器件,抗辐射等优点,成为近年来红外探测器领域应用的热点。

3)边射型激光器晶圆 (EE- Lasers)

        一种边发射的发光激光器,它的发光区被限制在一边的很小部分,有限的光发射区能改善与光纤和集成光路的耦合效率。

4)光电探测器晶圆 (PIN)

        在 P 区与 N 区之间生成 I 型层,吸收光辐射而产生光电流的一种光检测器。具有结电容小、渡越时间短、灵敏度高等优点。

5)量子点激光器晶圆(Quantum Dot Laser)

        对注入载流子具有三维量子限制结构的半导体激光器。 

2. 化合物半导体晶圆的规格与技术:

衬 底 类 型: 砷 化 镓 (GaAs Substrates)、磷 化 铟 (InP Substrates)、锑化镓(GaSb Substrates)、锑化铟(InSb Substrates)、砷化铟(InAs Substrates)

晶片尺寸:2、3、4、6 英寸

外延化合物:GaAs、AlGaAs、AlInAs、InGaAs、InAs、InP、InGaP

化合物半导体杂质类型:Si、Te (N 型掺杂剂)

                                       Be、C、Zn(P 型掺杂剂)

3. 化合物半导体应用领域:

        微电子产品:主要涉及 4G/5G 手机和基站的射频模块的高频收发套件,是包括 PA 功率放大器,射频开关的高频高速传输等关键功能的实现基础。是高速通信设备芯片的功能实现的不可或缺的根本载体。

        光电子产品:在光通信领域,围绕大型的数据中心的光纤通信应用光源。在消费类电子产品的应用中 3D 结构光的探测识别。在大功率激光焊接设备的光源部分的关键部件提供。

        红外产品:近年来锑化物材料在第三代红外探测器焦平面阵列、中远红外量子级联激光器、量子点激光器、超高速低功耗低噪声放大器、热光伏电池组件等方面都取得了巨大进展。

 

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